專利名稱：用以製備光波長選擇性遮蔽薄層的組成物與方法以及含有該光波長選擇性遮蔽薄層的織物與光學元件（中華民國發明專利第I386453號）

專利授權與讓售

	年度(國民年)(Year)：102

	核准國家(Country)：中華民國

	專利名稱(Title)：用以製備光波長選擇性遮蔽薄層的組成物與方法以及含有該光波長選擇性遮蔽薄層的織物與光學元件

	證書號碼(Number)：I386453

	專利類型(Type)：發明

	專利期間(Term)：2013-02-21~2029-11-23

摘要 (Abstract)
	在此揭示一種用以製備光波長選擇性遮蔽薄層的組成物。上述組成物包含二氧化鈦、二氧化錫、矽酸鹽礦物、水性丙烯酸酯樹脂與交聯劑。或者是，上述組成物包含稀土族硼化物、氧化銻錫、溶劑型丙烯酸酯樹脂與交聯劑。