專利名稱：光化學膜及其表面改質方法（中華民國發明專利第I431024號）

專利授權與讓售

	年度(國民年)(Year)：103

	核准國家(Country)：中華民國

	專利名稱(Title)：光化學膜及其表面改質方法

	證書號碼(Number)：I431024

	專利類型(Type)：發明

	專利期間(Term)：2014-03-21~2031-12-22

摘要 (Abstract)
	本發明是揭露一種光化學膜及其表面改質方法，其係利用反射面輔助紫外光照射，使單體接枝於高分子薄膜二表面而製得光化學膜，藉此大幅減少改質照射能量、改質時間以及改質成本。