專利名稱：光致冷裝置及其製備方法（中華民國發明專利第I473249號）

專利授權與讓售

	年度(國民年)(Year)：104

	核准國家(Country)：中華民國

	專利名稱(Title)：光致冷裝置及其製備方法

	證書號碼(Number)：I473249

	專利類型(Type)：發明

	專利期間(Term)：2015-02-11~2032-11-05

摘要 (Abstract)
	一種光致冷裝置，其由多對部分重疊接觸的N型光電半導體層與P型半導體層，以及將上述多對N型光電半導體層與P型半導體層串聯起來的電路所組成。上述光致冷裝置的製備方法也在此揭露。