專利名稱：負壓組件與應用其之清洗裝置（中華民國發明專利第I535912號）

專利授權與讓售

	年度(國民年)(Year)：105

	核准國家(Country)：中華民國

	專利名稱(Title)：負壓組件與應用其之清洗裝置

	證書號碼(Number)：I535912

	專利類型(Type)：發明

	專利期間(Term)：2016-06-01~2033-08-28

摘要 (Abstract)
	一種負壓組件與應用其之清洗裝置，用以清潔可撓性物件。清洗裝置包括本體、負壓組件與超音波源。本體具有容置槽以盛載流體。可撓性物件可移動地配置於容置槽的流體中。超音波源設置於本體並對流體提供超音波。負壓組件包括泵浦與至少一負壓產生器。負壓產生器配置在容置槽的流體中。負壓產生器具有連通的腔室與間隙，泵浦連通腔室。當可撓性物件行經負壓產生器與超音波源之間時，泵浦經由間隙與腔室汲取流體，而使流體在負壓產生器的表面與可撓性物件之間形成負壓流，以驅動可撓性物件移向並服貼於負壓產生器的表面。