【DSSC】染料敏化型太陽能電池專題系列(四) 115 日本DSSC重要專利分析 -光電極:基板導電膜

本專欄專門介紹日本「染料敏化型太陽能電池專利技術」概況,刊出時間非常不定,還請讀者多多注意Tnet動態。系列文章分為六大部分,如果您想瞭解其架構,還請參考一下系列報導的首篇文章。概略的說,如果您想知道些早期的DSSC商品,可以參考一下第一部份002~003。如果您想瞭解太陽能基礎知識,可參考004~016。如果想直接瞭解DSSC的技術發展介紹,那還請直接進入017~038篇報導,042開始介紹的是專利整體申請概況,056則正式進入各技術領域專利地圖分析,088起更進一步分析已拿到專利權的專利地圖分布情況。目前專欄正進入基本與重要專利解析,仍屬第四部分,有興趣的讀者可以追一下報導。

這個專題系列報導沒有任何評論與建議,只是很實在的用文字圖表來做文獻彙整與資料分析介紹,解讀要靠各位讀者自己去發展。專利上的分析採用封閉式的限定檢索時間範圍,所以您看不到今年最新的專利情況。各篇文章會儘量附上原始的文檔(附件)給需要的讀者下載,專利分析上所附的原始資料多數是日文資料,這點還請各位讀者見諒。接下來就開始我們的「染料敏化型太陽能電池」專題系列報導旅程了。今天要介紹的是第四部分「重要專利」,特別是基板導電膜幾個核心專利技術。

第四部分這個系列相當重要,因為它影響了整個局勢的發展。但如果您對日本專利毫無概念,還請您從第三部分的039介紹專利分類瞭解起。如果想要DSSC的F-term分類詳細介紹,還請您追溯一下040「DSSC在日本F-term中的專利分類介紹」,以及057的「F-term專利地圖」介紹。至於對專利技術走向沒興趣的讀者,可以靜待第五、六部分的市場或廠商動態介紹。

 

 

 

染料敏化型太陽能電池專題系列(四)  115

日本DSSC重要專利分析 -光電極:基板導電膜

 

紡織所 產業服務與資訊部

黃玲娉

 

基板導電膜也是攸關染料敏化型太陽能電池其光電轉換效率的關鍵技術,目前較為受注目的基板導電膜專利為東芝與Fujikura的技術,他們各提出了一件關於集電/金屬配線方面的專利,專利號為特許3441361與特開2003-203681。

另外Fujikura也在2003年提出了導電膜製造法(特開2004-311174)。

至於討論導電膜厚的專利也有一件,Fuji Xerox的特開2001-148491。

多層膜方面較重要的有兩件,以ITO/FTO層積為特色的特開2003-323818是Fujikura的技術,提出利用碳素皮膜的則是桐蔭學園的特開2004-241228。

 

イメージ ID=000004  イメージ ID=000003 イメージ ID=000006(東芝)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖1 特許3441361集電導電膜金屬/配線示意圖

 

 

 

イメージ ID=000009イメージ ID=000004  イメージ ID=000007(Fujikura)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖2 特開2003-203681電池結構示意圖

 

 

 

 

イメージ ID=000007イメージ ID=000006(Fujikura)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖3  特開2004-311174透明電極用基材與電池結構示意圖

 

 

イメージ ID=000014

透明電極(FTO膜/多孔質TiO2膜+Ru錯體) (Fuji Xerox)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖4  特開2001-148491多孔質半導體層受光面側吸收率

 

 

 

イメージ ID=000005

 塑膠基板+導電性薄膜層+炭素材料薄膜(桐蔭學園)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖5   特開2004-241228多層膜結構示意圖