【DSSC】染料敏化型太陽能電池專題系列(四) 122 日本DSSC重要專利分析 -電解質：Polymer Matrices設計與化學架橋法

本專欄專門介紹日本「染料敏化型太陽能電池專利技術」概況，刊出時間非常不定，還請讀者多多注意Tnet動態。系列文章分為六大部分，如果您想瞭解其架構，還請參考一下系列報導的首篇文章。概略的說，如果您想知道些早期的DSSC商品，可以參考一下第一部份002～003。如果您想瞭解太陽能基礎知識，可參考004～016。如果想直接瞭解DSSC的技術發展介紹，那還請直接進入017～038篇報導，042開始介紹的是專利整體申請概況，056則正式進入各技術領域專利地圖分析，088起更進一步分析已拿到專利權的專利地圖分布情況。目前專欄正進入基本與重要專利解析，仍屬第四部分，有興趣的讀者可以追一下報導。

這個專題系列報導沒有任何評論與建議，只是很實在的用文字圖表來做文獻彙整與資料分析介紹，解讀要靠各位讀者自己去發展。專利上的分析採用封閉式的限定檢索時間範圍，所以您看不到今年最新的專利情況。各篇文章會儘量附上原始的文檔(附件)給需要的讀者下載，專利分析上所附的原始資料多數是日文資料，這點還請各位讀者見諒。接下來就開始我們的「染料敏化型太陽能電池」專題系列報導旅程了。今天要介紹的是第四部分「重要專利」，特別是電解質中Polymer Matrices設計與化學架橋法相關的幾個重要技術。

第四部分這個系列相當重要，因為它影響了整個局勢的發展。但如果您對日本專利毫無概念，還請您從第三部分的039介紹專利分類瞭解起。如果想要DSSC的F-term分類詳細介紹，還請您追溯一下040「DSSC在日本F-term中的專利分類介紹」，以及057的「F-term專利地圖」介紹。至於對專利技術走向沒興趣的讀者，可以靜待第五、六部分的市場或廠商動態介紹。

染料敏化型太陽能電池專題系列(四) 122

日本DSSC重要專利分析 -電解質：Polymer Matrices設計與化學架橋法

紡織所產業服務與資訊部

黃玲娉

日本染料敏化型太陽能電池的擬固體化技術中，各種Polymer Matrices設計專利出現在1997年之後，一開始是Fujifilm Holdings的液晶性化合物(特開2000-319260) (備註1)、日本化藥的PMMA(特開2001-28276) (備註2)，最後技術發展開始轉向固態電解質。

在染料敏化型太陽能電池專利文獻中，關於Polymer Matrices設計的技術相當多，較受矚目的有Fujikura的特開2002-216861(圖1)與Sony的特開2003-303628(圖2)。

至於利用化學架橋法來達成擬固體化的技術。較重要的專利有三菱製紙苯乙烯基構造染料(特開2003-059548)、以及東芝的特許3977696，另外，Fujifilm也曾在1999年提出過特開2000-228234，也是用類似的技術。(圖3～圖4)

關於則使用溶劑上的重要專利有Fujifilm的特開2000-100486與新日本石油的特開2003-016833。這兩份專利的說明中都提及是固體電解質，但實際為擬固體電解質。(圖5～圖9)