【DSSC】染料敏化型太陽能電池專題系列(四) 118 日本DSSC重要專利分析 -光電極:對電極技術

本專欄專門介紹日本「染料敏化型太陽能電池專利技術」概況,刊出時間非常不定,還請讀者多多注意Tnet動態。系列文章分為六大部分,如果您想瞭解其架構,還請參考一下系列報導的首篇文章。概略的說,如果您想知道些早期的DSSC商品,可以參考一下第一部份002~003。如果您想瞭解太陽能基礎知識,可參考004~016。如果想直接瞭解DSSC的技術發展介紹,那還請直接進入017~038篇報導,042開始介紹的是專利整體申請概況,056則正式進入各技術領域專利地圖分析,088起更進一步分析已拿到專利權的專利地圖分布情況。目前專欄正進入基本與重要專利解析,仍屬第四部分,有興趣的讀者可以追一下報導。

這個專題系列報導沒有任何評論與建議,只是很實在的用文字圖表來做文獻彙整與資料分析介紹,解讀要靠各位讀者自己去發展。專利上的分析採用封閉式的限定檢索時間範圍,所以您看不到今年最新的專利情況。各篇文章會儘量附上原始的文檔(附件)給需要的讀者下載,專利分析上所附的原始資料多數是日文資料,這點還請各位讀者見諒。接下來就開始我們的「染料敏化型太陽能電池」專題系列報導旅程了。今天要介紹的是第四部分「重要專利」,特別是光電極中對電極相關的幾個重要技術。

第四部分這個系列相當重要,因為它影響了整個局勢的發展。但如果您對日本專利毫無概念,還請您從第三部分的039介紹專利分類瞭解起。如果想要DSSC的F-term分類詳細介紹,還請您追溯一下040「DSSC在日本F-term中的專利分類介紹」,以及057的「F-term專利地圖」介紹。至於對專利技術走向沒興趣的讀者,可以靜待第五、六部分的市場或廠商動態介紹。

 

 

 

染料敏化型太陽能電池專題系列(四)  118

日本DSSC重要專利分析 -光電極:對電極技術

 

紡織所 產業服務與資訊部

黃玲娉

 

染料敏化型太陽能電池的對電極材料一開始以複合材料為主,較重要的專利為Institute fur Angewante Photovoltaik的特開2001-43908,之後漸發展出碳黑(特開2002-298936)與導電性高分子(特開2003-317814),然後延伸出多孔質碳素特開2004-127849。

這方面的技術以Fuji Xerox、三菱化學學、豐田中央研究所與Aisin Seiki較為重要。

另外,訴求對電極機能的專利有EPFL的特表平10-505192 ,以及Ricoh的特開2000-34878。(圖1~圖5)

 

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碳黑為對電極材料(Fuji Xerox)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖1 特開2002-298936電池構造示意圖

 

 

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以導電性高分子電極材料(三菱化學,柳田祥三)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖2 特開2003-317814電池構造示意圖

 

 

 

以多孔質碳素為電極材料(豐田中央研究所, Aisin Seiki)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖3 特開2004-127849電池構造示意圖

 

 

イメージ ID=000004イメージ ID=000005(EPFL)

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖4  特表平10-505192電池構造示意圖

 

 

 

イメージ ID=000004イメージ ID=000006(Ricoh)
 

資料來源:日本特許廳IPDL資料庫. 本研究整理

圖5  特開2000-348784反光射層電池構造示意圖