專利名稱：複合拋光研磨不織布及其製造（中華民國發明專利第I378117號）
◎專利授權與讓售
*年度(國民年)(Year)：101
*核准國家(Country)：中華民國
*專利名稱(Title)：複合拋光研磨不織布及其製造方法
*證書號碼(Number)：I378117
*專利類型(Type)：發明
*專利期間(Term)：2012-12-01~2028-05-28
◎摘要 (Abstract)
一種複合拋光研磨不織布之製造方法，包含形成耐磨性複合母粒，該耐磨性複合母粒包含複數個耐磨性粒子以及第一熱塑性高分子；將耐磨性複合母粒製成拋光研磨層；形成彈性緩衝層，其包含第二熱塑性高分子；以及接合拋光研磨層與彈性緩衝層。一種複合拋光研磨不織布，至少包含拋光研磨層及彈性緩衝層。上述拋光研磨層包含第一熱塑性高分子以及複數個研磨粒子，且上述彈性緩衝層，包含第二熱塑性高分子，且位於該拋光研磨層下方。
◎發 明 人： 陳恆毅、林兼民、曾靖惠
◎專利內容：
本抛光研磨墊具雙層之不織布結構，利用混練技術及熔噴技術製成。表層不織布結構：為具剛性之研磨抛光層不織布，為含有奈米耐磨粒子和高分子均勻混合之奈米複合材料，經由熔噴加工的方法成為具高耐磨性能的高功能性奈米耐磨耗高分子不織布層。代表性的耐磨粒子為氧化鋁粒子，高分子為尼龍或高分子量的聚酯。底層不織布結構：為具彈性效果之不織布底層。代表性的高分子為熱可塑性聚醯胺樹脂。結合此兩層性質不同之不織布結構，而形成具絶佳效果之複合式抛光研磨墊。此不織布具有耐磨的能力，可應用在金屬、玻璃、寶石、石材、木料、手工藝品、及高科技電子產業之晶圓或玻璃面板等之抛光研磨加工。
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表層結構為PA不織布, 底層結構為TPU彈性不織布
